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相关介绍
用途:
用于半导体wafer晶圆/FC基板上的凸点植球封装工艺,和Flux模板搭配使用
主要参数:
植球球径范围:
0.06~0.5mm
钢片厚度范围
0.02~0.25mm
Flux模板开孔范围
≥0.04mm
开孔位置精度
可达+/-0.01mm
优势
植球模板由于孔数过多(几十万上百万),是激光工艺无法加工的,蚀刻工艺开孔精度不够,通常选择电铸工艺加工
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